Korelasi dinamik antara jenis pencemaran osmosis songsang dan perbezaan tekanan

Semasa operasi Osmosis Songsang Dalam sistem ini, pengotoran yang disebabkan oleh bahan pencemar yang berbeza berkorelasi dengan ketara dengan perubahan perbezaan tekanan. Dengan mengambil pepejal terampai, koloid dan pencemaran mikrob sebagai contoh, bahan-bahan sedemikian biasanya berkumpul di hujung kepala membran, menyebabkan penyumbatan setempat pada saluran aliran.

Untuk jenis pencemaran ini, pembersihan kimia memerlukan larutan komposit 0.1% natrium hidroksida dan 0.025% natrium dodesil sulfat, dengan nilai pH dikawal pada 11-12 dan suhu di bawah 30°C. Eksperimen menunjukkan bahawa larutan ini boleh mencapai kadar penyingkiran koloid lebih daripada 92%.

Bagi masalah penskalaan kalsium karbonat dan kalsium sulfat, pengotoran biasanya bermula pada akhir peringkat kedua. Pada masa ini, larutan asid hidroklorik 0.2% diperlukan untuk pembersihan, dengan nilai pH dikawal ketat pada 2-3 dan suhu tidak melebihi 35°C.

Pencemaran silika dan silikat agak istimewa, dan mempunyai sedikit kesan terhadap perbezaan tekanan pada peringkat awal. Adalah disyorkan untuk menggunakan larutan campuran 0.1% natrium hidroksida dan 0.025% Na4EDTA untuk pembersihan jenis pencemaran ini, dengan pH dikekalkan pada 11-12, dan kecekapan pelucutan skala silika sebanyak 85%.